多靶磁控溅射镀膜设备及其特性

作者：佘鹏程; 陈庆广; 胡凡; 陈特超; 彭立波; 张赛; 毛朝斌

来源：电子工业专用设备, 2016, 45(06): 32-44.

• 磁控溅射
• 溅射靶
• 离子源

介绍了一种多靶磁控溅射镀膜设备,阐述了镀膜室、工件台、阴极溅射靶、辅助离子源、真空系统等关键部件的设计思想。镀膜工艺结果显示,设备满足工艺要求,膜层均匀性优于±3%。

• 出版日期2016
• 单位中国电子科技集团公司第四十八研究所