摘要

本发明公开了基于智能剥离技术的单片异质集成Cascode氮化镓高迁移率晶体管,由GaN高电子迁移率晶体管和Si金属氧化物半导体场效应晶体管组合而成,其自下而上包括:衬底(1)、GaN缓冲层(2)、AlGaN势垒层(3),AlGaN势垒层的中间刻有隔离槽(4),以对所组合的两种晶体管进行电气隔离;隔离槽一侧的AlGaN势垒层上设有GaN高电子迁移率晶体管的源、漏、栅电极;隔离槽另一侧的AlGaN势垒层一侧上设有Si有源层(5);该Si有源层键合到隔离槽一侧的AlGaN势垒层上,形成硅与氮化镓异质集成的单片芯片。本发明降低了制造成本,增强了器件的可靠性,可用于电源转换器及反相器电源控制与转换。