研究了晶体硅太阳电池酸绒面制备中,NH3.H2O在HF/HNO3/H2O体系中对硅片刻蚀速度的影响.实验结果表明,当NH3.H2O加入量较少时,硅片刻蚀速度随NH3.H2O含量增加而变大;NH3.H2O含量大于某值时,硅片刻蚀速度随NH3.H2O含量增加而减小.最后,用气泡搅拌理论以及扩散层理论对实验中的现象进行了理论分析,其结果对多晶硅太阳能电池酸绒面制备有一定指导意义.
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