Ag/Si(111)超薄膜光学二次谐波强度变化与结构相变研究

作者：于新彪; 邓冬梅; 白丽华; 曹世勋; 张金仓

来源：低温物理学报, 2011, (04): 241-245.

• Ag/Si(111)超薄膜
• 表面重构
• 光学二次谐波法
• 结构相变 Ag/Si(111) Ultra-thin film
• Surface reconstruction
• Optical second-harmonic generation
• Structural phase transition

在130~830K温度范围内,系统研究了Si(111)-3~(1/2)×3~(1/2)-Ag和Si(111)-3×1-Ag超薄膜重构表面的光学二次谐波的温度依赖性,分析了信号强度的变化和表面结构之间的关联.结果表明,对于Si(111)-3×3-Ag结构薄膜表面而言,在130K到320 K的温度范围内,表面光学二次谐波信号强度的变化中没有出现明显的跃变,反映出在这一温度范围内没有出现结构相变,与K.Sakamoto等人的光电子衍射实验结果一致.而对于Si(111)-3×1-Ag薄膜表面,二次谐波信号在200K到500K之间出现的台阶式变化可能反映了在500 K时Si(111)-3×1-Ag到Si...

• 出版日期2011
• 单位上海大学