离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响

作者：舒谊; 周林; 解旭辉; 廖文林; 李圣怡

来源：纳米技术与精密工程, 2012, (04): 365-368.

DOI：10.13494/j.npe.2012.065

• 离子束抛光
• 倾斜入射
• 熔石英
• 表面粗糙度
• 超光滑表面 ion beam figuring
• oblique incidence
• fused silica
• surface roughness
• ultra-smooth surface

基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°～80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°～60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了...

• 出版日期2012
• 单位中国人民解放军国防科学技术大学