多孔氧化铝薄膜的光致发光起源:三种缺陷中心

作者：李国栋; 王倩; 邓保霞; 张雅晶

来源：Acta Physica Sinica, 2014, 63(24): 331-338.

• 多孔氧化铝薄膜
• 光致发光中心
• 缺陷机理
• 杂质控制 pore alumina film
• luminescent center
• defect mechanism
• impurities control

在草酸溶液中用二次阳极氧化法制备了纳米多孔氧化铝薄膜,分析了制备过程中氧化铝薄膜中缺陷的形成机理.场发射电子显微镜给出了薄膜的表面形貌和结构.X射线色散能谱和傅里叶红外透射光谱测试表明,进入薄膜中的草酸杂质加热到500℃未全部分解.对多孔氧化铝薄膜的光致发光PL光谱做了高斯拟合,结合测试结果和薄膜中的缺陷分析指出:多孔氧化铝薄膜的发光由F+,F和草酸杂质相关缺陷引起,对应发光中心分别在402,433,475 nm处,并提出F中心起主导作用.对不同草酸浓度中制备的多孔氧化铝薄膜的PL光谱讨论指出:随草酸浓度增加,三种发光中心的峰位不会发生变化,但相对强度发生改变,F+中心和F中心减少,草酸杂质相...

• 出版日期2014
• 单位新疆大学