采用定向凝固与选择性腐蚀复合工艺,获得NiAl-W纳米多孔阵列。通过定向凝固速率可调节棒状NiAl-W共晶中棒状W相的间距和直径,电化学选择性腐蚀去除W相后,在NiAl基体表面上形成间距和孔径可调的多孔阵列。由于孔径尺度的限制,孔列在电势0.5V连续腐蚀23h后受到极大的阻力。
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