基于SVM及多目标遗传算法的光刻热点检测

作者：曹葵康; 沈海斌; 杨祎巍

来源：电路与系统学报, 2012, (03): 26-30.

• 可制造性设计
• 光刻热点
• 离散余弦变换
• 支持向量机
• 遗传算法 design for manufacturability(DFM)
• lithography hotspot
• discrete cosine transform(DCT)
• support vector machine(SVM)
• genetic algorithm(GA)

提出一种基于支持向量机(SVM)及多目标遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法。首先对版图样本进行离散余弦变换(DCT)以提取样本的频域特征,然后基于这些样本训练SVM分类器以实现对光刻热点的检测。采用多目标遗传算法(GA)对频域特征进行选择,并同时优化SVM分类器的相关参数。实验结果表明,本光刻热点检测方法可以有效提高版图光刻热点检测的精度和效率。

• 出版日期2012
• 单位浙江大学; 华南理工大学