氢退火工艺对非晶硅光学性能的影响

作者:曾璞; 罗杰平; 刘从吉; 罗丹; 袁菲; 罗辉; 王兴伦; 王路; 钱煜; 关晟
来源:集成电路应用, 2022, 39(01): 43-45.
DOI:10.19339/j.issn.1674-2583.2022.01.014

摘要

阐述利用等离子化学气相沉积制备了非晶硅材料,然后在不同浓度的氢气气氛下进行了等离子退火处理,并对其折射率,消光系数和傅立叶红外吸收谱进行了测试分析。结果显示,不同浓度的氢气氛等离子退火处理对非晶硅材料的光学性能有影响。

  • 出版日期2022
  • 单位西南技术物理研究所; 四川航空股份有限公司

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