分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙电极的研究结果,对今后的相关研究问题进行了讨论。采用选择性化学沉积技术制备镍双电极的间隙已可小于100nm。该技术对于制备纳米间隙电极具有一定的优势。
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