薄膜厚度对多层膜巨磁阻抗效应的影响研究

作者：周勇; 丁文; 陈吉安; 高孝裕; 王明军; 张亚民

来源：功能材料与器件学报, 2004, (02): 165-170.

• 巨磁阻抗效应
• 非晶FeSiB薄膜
• FeSiB/Cu/FeSiB多层膜
• 薄膜厚度 giant magnetoimpedance
• amorphous FeSiB film
• multilayered FeSiB/Cu/FeSiB films
• film thickness

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了FesiB/cu/FesiB多层膜,在100kHz～40MHz范围内研究了FesiB薄膜厚度对FesiB/Cu/FesiB多层膜巨磁阻抗效应的影响。当磁场施加在薄膜的纵向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应。当FesiB薄膜的厚度为1.8μm时,在频率3.2MHz、磁场2.4kA/m时,多层膜巨磁阻抗效应达最大值13.5％;在磁场为9.6kA/m时,巨磁阻抗效应为-9.2％。然而,当FesiB薄膜的厚度为1μm时,多层膜的巨磁阻抗效应在频率40MHz、磁场1.6kA/m时达最大值5.8％。另外,当...

• 出版日期2004
• 单位上海交通大学