纳米碳化硅表面修饰的工艺研究及结构表征

作者：宿辉; 刘辉; 乔春玉; 曹茂盛; 原小寓; 王晓丹; 崔旭光; 胡明星

来源：电镀与精饰, 2014, (04): 5-8+37.

• SiC)P微粒
• 核壳结构
• Ni
• 化学镀
• 结构表征 (SiC)P particulate
• core-shell structure
• Ni
• electroless plating
• structure characterization

针对(SiC)P纳米微粒在应用中存在的易团聚、材料间相容性差等关键技术问题,采用化学镀方法对(SiC)P纳米微粒进行了表面修饰。设计了实验方案,优化了工艺参数。实验结果表明,预处理过程、镀液的温度、pH等对修饰效果影响较大。确定适合的工艺参数,镀液θ为45℃、pH为9.0。电子显微镜、能谱仪等仪器表征显示,修饰后的SiC微粒近球形,形貌均匀,有明显的核、壳部分,核壳处不同的衬度表明(SiC)P微粒表面沉积了较多的金属Ni,形成了碳化硅-镍核壳结构复合粒子。

• 出版日期2014
• 单位北京理工大学; 黑龙江工程学院