科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
本发明提供的MOCVD设备喷淋头包括MO源通道、保护气体通道、氧源通道、观察通道、以及反应腔,MO源气体、保护气体分别通过MO源通道、保护气体通道直达反应腔内部,氧源气体通过缓冲腔分散后再通过氧源通道到达反应腔,保护气体通道设置于MO源通道和氧源通道之间,保护气体在反应腔内形成气壁,从而分隔开MO源气体以及氧源气体在反应腔内到达旋转基座前的预混合,从而提高MOCVD设备生长薄膜的质量。本发明提供的MOCVD设备喷淋头可通过控制保护气体流量来控制气壁的厚度以及长短,通过设计观察通道、MO源通道、保护气体通道及氧源通道的设计可以准确控制生长薄膜的质量,得到高质量的薄膜。
- 出版日期2015-11-19
- 单位佛山市中山大学研究院
