一种可监控的电解抛光设备

摘要

本发明公开了一种可监控的电解抛光设备，包括基座以及设于基座上并可沿X、Y轴移动的支撑装置；支撑装置上设有可旋转的电解槽；电解槽内设有工作台；工作台的下方固定有与支撑装置固定连接的阳极导电装置。本发明可实现在抛光过程中对工件抛光表面和电解抛光间隙的监控，使操作人员更清楚、及时地了解加工状况；同时，阴极夹头可沿Z轴方向移动，电解槽可沿X轴、Y轴移动，并且阴极夹头可实现倾斜角度的变化，电解槽可沿垂直轴线旋转，通过调整待抛光工件和阴极夹头的相对位置、角度和间隙距离，可抛光不同型面工件，具有一定柔性，可改善待抛光工件在抛光后的尺寸变化不均问题，可用于较高尺寸精度要求的工件进行抛光。

关键词