光和传统热固化对SiO_2减反膜影响的对比

作者：靳瑞敏; 蔡志端; 苍利民; 阎韬; 徐建军; 栗书增

来源：材料科学与工程学报, 2013, (03): 461-463.

DOI：10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2013.03.004

• 溶胶-凝胶SiO2薄膜
• 光固化
• 传统电阻炉固化
• 表面结构
• 折射率 Sol-gel process silica film
• light treatment
• furnace treatment
• surface structure
• refractive index

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过调节添加剂控制溶胶溶液性能,然后分别用光固化和传统电阻炉固化两种不同的热处理方案,制备出低折射率SiO2光学减反薄膜。分别采用椭偏仪、扫描电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究。研究结果表明:光固化比传统电阻炉固化减反膜折射率低。

• 出版日期2013
• 单位南阳理工学院