95%Ar+5%H2气氛退火对Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2薄膜形貌和结构的影响

作者：熊芬; 姜思宇; 吴隽^*; 耿仁杰; 郭才胜; 祝柏林; 姚亚刚; 刘静

来源：人工晶体学报, 2019, 48(12): 2186-2193.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.12.004

• Ag/MoS2
• Ag/BN/MoS2
• 连续逐层沉积
• 95%Ar+5%H2退火

采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95%Ar+5%H2混合气氛中进行500℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究。结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密且清洁。95%Ar+5%H2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混合形态,特别是引入BN层后促进了其向更大更薄的片状转变,且MoS2薄膜由块状变成类层状结构。另外,电性能表征显示Ag/MoS2具有良好的欧姆接触且电阻率低,引入BN层使得Ag与BN以及BN与MoS2的界面处产生肖特基势垒从而使Ag/BN/MoS2具有整流特性。

• 出版日期2019
• 单位武汉科技大学; 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所