单晶硅掺杂类型对化学镀Ni-P膜的影响

作者：麻华丽; 张新月; 杜银霄; 陈雷明; 茹意; 张锐; 曾凡光; 刘波; 刘凯; 梁浩

来源：功能材料与器件学报, 2011, (06): 564-568.

• 化学镀
• N型Si
• P型Si
• Ni-P膜 electroless
• N-Si
• P-Si
• Ni-Pfilms

本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni-P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响;并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究。结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,以P型Si(100)作为基底时,膜层颗粒度及平整度较好。

• 出版日期2011
• 单位郑州航空工业管理学院; 河南大学