Fei氏方波对Ni-P合金镀层组成及其非晶化程度的调控作用

作者：郭琪琪; 费敬银^*; 张嫚; 韩锡正; 赵利娜

来源：材料工程, 2020, 48(06): 163-169.

• 非晶化
• 电沉积
• Fei氏方波
• 高P
• Ni-P合金

为解决常规电沉积过程中无法获得耐蚀性优异的非晶态结构Ni-P合金镀层的问题,以快速镀Ni-P合金镀液为基础镀液,采用Fei氏方波电沉积法研究波形参数对Ni-P合金镀层非晶化过程的影响规律。采用扫描电子显微镜(SEM)表征Ni-P合金镀层的微观形貌,通过能谱分析(EDS)方法进行镀层P含量分析,用X射线衍射技术(XRD)考察镀层相结构的变化。优化的脉冲工艺参数为:平均电流密度15 A/dm2,逆向脉冲系数0.3,占空比0.6,频率1 Hz。研究表明:通过调整Fei氏方波参数,可电沉积出镀层表面完整、外观光亮、P含量最高可达17.93%(质量分数)、几乎没有金属晶体衍射峰的非晶态Ni-P合金镀层。

• 出版日期2020
• 单位西北工业大学