AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu光谱选择性吸收涂层高温真空稳定性研究

作者：董亚斌; 杜淼; 刘晓鹏; 郝雷

来源：稀有金属, 2016, (09): 896-901.

DOI：10.13373/j.cnki.cjrm.XY15031903

• 选择性吸收涂层
• 热稳定性
• 晶化
• 元素扩散
• 激活能 solar selective coating
• thermal stability
• crystallization
• elements diffusion
• activation energy

利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)和俄歇电子能谱仪(AES)研究了AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化。结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微观形貌保持稳定。制备态涂层的AlON层和TiAlON_D层为非晶结构,TiAlON_M层由非晶基体和分散的晶粒组成。550℃高温真空退火24 h后,TiAlON_M层发生晶化,晶粒长大。退火过程中,O元素从AlON层扩散至TiAlON双吸收层,而N元素从TiAlON双吸收层扩散至AlON层,同时膜层界面区域变宽。高温真空处理后涂层的吸收...

• 出版日期2016
• 单位北京有色金属研究总院