原子层沉积方法制备低温多层Al_2O_3/TiO_2复合封装薄膜的研究

作者：周忠伟; 李民; 徐苗; 邹建华; 王磊; 彭俊彪

来源：液晶与显示, 2016, 31(06): 532-539.

• 有机电致发光器件
• 薄膜封装
• 原子层沉积
• 水汽透过率 organic electroluminescent devices
• thin film encapsulation
• atomic layer deposition
• water vapor transmission rate

原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜,被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一。本文采用原子层沉积(ALD)技术,在低温(80℃)下,研究了Al_2O_3及TiO_2薄膜的生长规律,通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段,研究了不同堆叠结构的多层Al_2O_3/TiO_2复合封装薄膜的水汽阻隔特性,其中5nm/5nm×8dyads(重复堆叠次数)的Al2O3/TiO2叠层结构薄膜的WVTR达到2.1×10-5 g/m~2/day。采用优化后的Al_2O_3/TiO_2叠层结构薄膜对OLED器件进行封装,实验发现封装后的OLED器件在高...

• 出版日期2016
• 单位华南理工大学; 创维液晶器件（深圳）有限公司; 材料科学与工程学院