Fe2O3/SiC催化剂低温下用NH3选择性催化还原NO

作者：白书立^*; 薛瑶佳; 李换英; 罗涛; 张晓玉

来源：河南师范大学学报(自然科学版), 2021, 49(05): 83-88.

DOI：10.16366/j.cnki.1000-2367.2021.05.011

• 碳化硅
• Fe2O3
• 还原NO
• 低温

采用湿化学浸渍的方法制备了碳化硅负载的三氧化二铁催化剂.通过扫描电镜(SEM)、元素分析(EDS)、X-射线衍射仪(XRD)、X-射线光电子能谱(XPS)和NH3的程序升温还原方法(NH3-TPD)对所制备样品进行了表征,研究了Fe2O3/SiC催化剂在低温下(≤300℃)利用NH3选择性催化还原NO的性能.结果表明,Fe2O3以非晶态的形式或以单层的形式分散在SiC表面,Fe2O3/SiC催化剂具有较高的低温催化活性,当Fe2O3负载量为10%(质量分数),反应温度为250℃时,NO的转化率达到91.3%,催化反应主要遵循Eley-Rideal机理.

• 出版日期2021
• 单位五邑大学