单靶磁控溅射制备铜铟硒和铜铟锌硒薄膜及其结构、光学性质研究(英文)

作者：王伟君; 何俊; 张克智; 陶加华; 孙琳; 陈晔; 杨平雄; 褚君浩

来源：无机材料学报, 2014, (11): 1223-1227.

• 磁控溅射
• 铜铟锌硒
• 锌掺杂 magnetron sputtering
• CIZS thin film
• Zn doping

采用单靶磁控溅射法制备了铜铟硒(CIS)和铜铟锌硒(CIZS)薄膜。XRD表征发现CIZS-300出现了与其它薄膜不同的择优取向,分析认为贫铜的状态和适宜温度可能促使薄膜择优取向从(112)向(220)转化;拉曼光谱在171 cm-1处出现的较强峰,和206 cm-1处出现的较弱峰,分别为A1和B2振动模式,而Zn的掺入导致A1拉曼峰的宽化和蓝移;Zn的掺入使Cu含量改变进而使CIZS禁带宽度增大,这是由于Se的p轨道和Cu的d轨道杂化引起的;SEM测试结果表明CIZS薄膜表面比CIS表面更为紧密、平滑。

• 出版日期2014
• 单位华东师范大学