多界面氟硅共掺杂类金刚石薄膜的腐蚀性

作者：张仁辉; 赵娟; 石维

来源：铜仁学院学报, 2017, (03): 31-33.

• 偏压
• 类金刚石
• 腐蚀
• 内应力 bia voltage
• diamond-like carbon
• corrosion
• internal stress

采用等离子体增强化学气相沉积方法制备得到了不同偏压下(0.8kV、0.9kV、1.0kV)的多界面氟硅共掺杂类金刚石薄膜。通过SEM表征可知,在不同偏压下制备的薄膜厚度分别为5.0μm、8.5μm和10μm;通过TEM表征得到所制备的膜层为无定型结构;划痕测试与腐蚀测试结果显示,0.8kV下制备得到的膜层不仅膜基结合好,而且耐蚀性能好。

• 出版日期2017
• 单位铜仁学院