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Microstructure and properties of Ti-Si-N nanocomposite films deposited by reactive sputtering
作者:Mei, Fanghua; Shao, Nan; Hu, Xiaoping; Li, Geyang
*
; Gu, Mingyuan
来源:
Vacuum Science and Technology
, 2004, 24(4): 267-270.
Nanocrystal grain
Reactive sputtering
Silicon content
Ti-Si-N nanocomposite film
出版日期
2004
单位
上海交通大学
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