超导射频腔用铌材的表面化学抛光技术

作者：陈向林; 唐县娥; 法涛; 邹东利; 白彬; 蒙大桥

来源：稀有金属材料与工程, 2018, 47(08): 2472-2476.

• 超导铌腔
• 化学抛光
• 表面状态

通过分析化学抛光过程中铌材的抛光速率、表面形貌和氧化状态等参数,确定了超导腔用铌材的表面化学抛光工艺:混合酸(HNO3:HF:H3PO4=1:1:2,体积比)为适合的抛光试剂,抛光速率方程为h=29.359t 0.9247,抛光615 min可移除厚度154360μm,表面粗糙度Ra小于0.65μm,表面Nb2O5层厚度小于10 nm。同时,利用电子背散射衍射技术(EBSD)结合表面形貌讨论了化学抛光机制,发现机加纹路消除后继续延长抛光时间,晶粒内高指数晶面(原子疏排面)会被优先抛光,从而在晶界处形成较深的沟槽,在晶粒内出现尖锐突起。

• 出版日期2018
• 单位中国工程物理研究院