摘要

利用二次阳极氧化法制备多孔氧化铝(AAO)模板,然后用NaOH、磷铬酸和不同质量分数的H3PO4等溶液,对AAO模板进行湿法刻蚀。研究了刻蚀时间与AAO模板质量减少之间的变化关系。结果表明,质量分数为3%的H3PO4溶液是最为温和的刻蚀剂,它在刻蚀过程中AAO模板的质量减少跟刻蚀时间呈较好的线性关系。SEM测试表明,刻蚀后的AAO模板表面存在大量的氧化铝纳米线,它们是在刻蚀的过程中产生的,并影响着刻蚀速率。通过调节刻蚀时间,可实现对AAO模板的精确可控刻蚀,这对制备纳米器件具有重要意义。