文中介绍的是400～700℃之间在基体上生长TiN膜的一种新方法,由TiCl_4和NH_3通过化学气相沉积形成膜,生长速度已达到0.1μm/s,这种方法用途广泛。测量了膜的光学性质,并用Drude理论对得到膜的等离子频率进行了理论上的分析,根据Maxwell Garnett改进的Drude理论解释了较薄的膜在IR区反射率的降低。对膜在热镜上和其它方面的应用进行了讨论。
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