近年来,液晶电视的需求呈现强劲的增长势头.多畴垂直取向(MVA)模式的液晶显示器(LCD)与其他显示模式的LCD相比,具有高对比度、宽视角及快速响应等特点,但需要制作昂贵且复杂的凸起结构以保证液晶分子的取向,因此如何避免制作凸起结构成为许多研究者的课题.为解决上述问题,采用新颖的增强边缘电场效应(AIFF)MVA技术,通过光刻手段制造不同图形参数的精密电极基板,并结合计算机模拟结果,分析了像素尺寸对液晶光学织构及电光特性的影响.
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