AlF_3-KF-KBr钎剂去膜机理研究

作者：俞伟元; 路文江; 刘贇

来源：兰州理工大学学报, 2012, (01): 9-11.

DOI：10.13295/j.cnki.jlut.2012.01.019

• AlF3-KF-KBr钎剂
• 氧化膜
• X衍射分析 solder AlF3-KF-KBr
• oxide film
• X-ray diffraction

AlF3-KF-KBr钎剂是一种新型的低熔点、无腐蚀钎剂,可用于低熔点铝合金的钎焊.通过X衍射分析研究AlF3-KF-KBr钎剂去除纯铝表面氧化膜的机理.研究表明:AlF3-KF-KBr钎剂使纯铝表面的Al2O3氧化膜松动、破碎,并与其发生化学反应使膜彻底破坏,钎剂与氧化膜反应后生成KAl5O8和Al5O7Br,氧化膜的去除主要是溶解过程.此外还发现,AlF3-KF钎剂去除氧化膜主要是K3AlF6与Al2O3发生反应,KAlF4不与其发生反应,但能确保钎剂的流动性.

• 出版日期2012
• 单位兰州理工大学