(TiZr)N硬质膜的沉积工艺研究

作者：刘冬玲; 张钧; 明悦

来源：真空, 2016, 53(01): 17-20.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.01.04

• (TiZr)N硬质膜
• 多弧离子镀
• 沉积工艺
• 力学性能

本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响。考察了阴极靶电流、N2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响。研究表明,沉积工艺参数的波动变化不会对膜层组织、力学性能产生明显影响。(TiZr)N硬质膜的沉积工艺参数可以有较大的波动范围,沉积工艺窗口具有良好的可应用性。

• 出版日期2016
• 单位沈阳大学