不同浓度S掺杂2H-CuInO2的第一性原理研究

作者:张校坚; 刘文婷
来源:全面腐蚀控制, 2023, 37(05): 78-81.
DOI:10.13726/j.cnki.11-2706/tq.2023.05.078.04

摘要

本文采用基于第一性原理的密度泛函理论(DFT)平面波超软赝势方法,对1.04%、1.39%、2.08%掺杂浓度下2H-Cu In O2的能带结构和电子态密度进行了理论计算研究。结果表明:随着掺杂浓度的提高,S的掺杂使纯净的2H-Cu In O2能带结构中价带顶的位置被改变,并使其带隙降低。另外S的杂质能级在2H-Cu In O2中属于浅能级杂质,会参与费米能级的形成,说明S的掺杂可以提高2H-Cu In O2的导电率。

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