纳米黑镍薄膜腐蚀行为的研究

作者:陈映川; 宋利晓; 陈宇; 张昭; 杨仲年; 张鉴清
来源:电镀与环保, 2011, 31(04): 11-14.
DOI:10.3969/j.issn.1000-4742.2011.04.004

摘要

采用直流电沉积技术在仅含有单一镍盐的改性Watts镀槽中获得了纳米晶黑镍薄膜,同时采用电化学阻抗谱(EIS)技术对其腐蚀电化学行为进行了详细的研究。结果表明:纳米晶黑镍薄膜的表面平整、致密、光亮,平均晶粒直径为51.4 nm,与黄铜基体间具有很好的结合力。在质量分数为3.5%的中性NaCl溶液中,纳米晶黑镍薄膜较传统的商用卫浴亮镍镀层具有更好的耐蚀能力。

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