不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响

作者：田颖; 李浙齐; 徐洪峰; 吴艳波; 杨凤林

来源：Acta Physico - Chimica Sinica, 2008, (04): 612-618.

• 聚吡咯
• 氧化还原行为
• 电解质溶液
• FT-IR Polypyrrole
• Redox behavior
• Electrolyte solutions
• FT-IR

以对甲基苯磺酸钠(p-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为.结果表明,在H2SO4溶液中,以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征,并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征.FT-IR吸收光谱显示,经NaOH处理后,聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏,而经H2SO4和Na2SO4处后,膜的共轭结构未发生变化.

• 出版日期2008
• 单位大连理工大学; 大连交通大学