考虑界面应力时含椭圆孔正交异性材料的反平面问题研究

作者：肖俊华; 史传福; 徐耀玲; 张福成

来源：燕山大学学报, 2014, (03): 272-276.

• 界面应力
• 正交异性材料
• 纳米椭圆孔
• 反平面剪切
• 尺寸依赖 interface stress
• orthotropic material
• nano elliptic cavity
• anti-plane shear
• size dependent

研究了远场作用反平面剪切载荷时含纳米椭圆孔正交异性材料问题。基于Gurtin-Murdoch表面/界面理论模型引入界面应力,利用复变弹性理论和保角映射方法,给出了考虑界面应力时含椭圆孔正交异性材料反平面问题的解析解答,获得了应力场的闭合解。研究表明:当椭圆孔在纳米量级时,正交异性材料内应力场受孔隙尺寸影响显著。随着椭圆孔尺寸的增大,界面效应对应力场的影响逐渐减弱,趋近于经典弹性理论的解答。界面效应对正交异性材料内应力场的影响随着材料弹性主方向比55/44的增大逐渐减弱。

• 出版日期2014
• 单位亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室; 燕山大学