AZ91D镁合金低压交流氧化成膜机制

作者：李文; 李卫平; 刘慧丛; 朱立群

来源：北京航空航天大学学报, 2011, (09): 1186-1190.

DOI：10.13700/j.bh.1001-5965.2011.09.007

• AZ91D镁合金
• 交流低压
• 阳极氧化
• 成膜过程 AZ91D magnesium
• low AC voltage
• anodizing oxidation
• growth process

基于一种低的交流电压条件(10 V),在NaOH和Na2SiO3的混合溶液体系中,对AZ91D镁合金进行电化学阳极氧化处理.利用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、电化学测试技术等手段研究了AZ91D镁合金表面阳极氧化的成膜过程、膜层生长的特点以及氧化工艺参数对膜层性能的影响规律.试验结果表明:在10 V这样低的交流电压下,在镁合金表面获得的氧化膜层表面均匀,为无孔洞的平层状膜层,其生长过程呈叠加式特点;获得的氧化膜层的主要成分为Mg2SiO4;在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,经过电化学阳极氧化的镁合金的耐蚀性优于未经处理的镁合金.

• 出版日期2011
• 单位北京航空航天大学