N注入过程中Ti薄膜内的晶体结构变化

作者：王建军; 粕壁善隆; 刘春明

来源：东北大学学报(自然科学版), 2012, 33(12): 1722-1725.

• Ti薄膜
• 离子注入
• hcp-fcc相变
• EELS
• 杂化轨道 Ti thin film
• ion implantation
• hcp-fcc transformation
• hybrid orbital

利用电子束加热沉积(EBD)法在经洁净处理的NaCl基板表面沉积Ti薄膜,并利用离子加速器向薄膜中注入62keV N+2离子,分析了N注入前后Ti薄膜中的晶体结构变化.透射电镜(TEM)观察结果表明,N原子的侵入导致Ti薄膜发生hcp-fcc相变,部分hcp-Ti转变成fcc-TiNy;N原子占据晶格中八面体间隙位置产生晶格畸变而导致的内应力可能是hcp-fcc相变的驱动力之一.随着薄膜中N含量的增加,hcp-Ti减少,fcc-TiNy成分增多.利用电子能量损失谱(EELS)测定了Ti薄膜的能量损失变化,分析认为由于N的侵入,Ti原子与N原子结合形成了TiNy化合物,N 2p外层电子主要和Ti...

• 出版日期2012
• 单位东北大学