射频磁控溅射透明ZnO薄膜的退火性质分析

作者：汪冬梅; 吕珺; 徐光青; 吴玉程; 郑治祥

来源：合肥工业大学学报(自然科学版), 2006, (10): 1185-1188.

• ZnO薄膜
• RF磁控溅射
• 退火处理
• 结晶
• 应力
• 透光性 ZnO thin film
• RF magnetron sputtering
• annealing
• crystallization
• stress
• transmittance

采用射频(RF)磁控溅射法在玻璃衬底上制备了c轴择优取向的ZnO薄膜。对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行不同温度(350~600℃)的退火处理。利用XRD研究退火对ZnO薄膜晶体性能和应力状态的影响;用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌;用分光光谱仪测试薄膜的透光率。研究表明,随退火温度的升高,ZnO薄膜(002)衍射峰强度不断增强,半高宽逐渐减小;ZnO薄膜中沿c轴方向存在着的张应力在500℃退火时得到松弛;退火处理后薄膜的平均透光率变化不大,但透射光谱出现了“红移”现象。

• 出版日期2006
• 单位合肥工业大学