Sol-gel法制备Si基Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜

作者：刘长永; 郭冬云; 王传彬; 沈强; 张联盟

来源：材料导报, 2011, S1: 336-339.

• Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)薄膜
• sol-gel法
• 微观结构
• 晶粒尺寸 Bi_(3.15) Nd_(0.85) Ti_3 O_(12) thin films
• sol-gel method
• microstructure
• grain size

采用Sol-gel法分别在Si(100)和Si(111)衬底上制备Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)(BNT)铁电薄膜。研究了衬底、退火温度、退火保温时间和薄膜厚度等因素对BNT铁电薄膜结晶和微观结构的影响。在500℃退火的BNT薄膜已经结晶形成层状钙钛矿相;升高退火温度(500～800℃)、延长保温时间(30～150min)、增加薄膜厚度(170～850nm),都有利于BNT薄膜晶粒长大,其中退火温度和薄膜厚度是影响晶粒长大的关键因素;每次涂覆的厚度大约是85nm。与Si(100)衬底相比,由于Si(111)与BNT薄膜具有更好的晶格匹配,因此BNT薄膜在Si(111)...

• 出版日期2011
• 单位武汉理工大学; 材料科学与工程学院; 材料复合新技术国家重点实验室