含缺陷双层石墨烯的纳米压痕模拟研究

作者：华军; 武霞霞; 段志荣

来源：力学学报, 2016, (04): 917-925.

• 双层石墨烯
• 缺陷
• 纳米压痕
• 分子动力学
• 薄膜 bilayer graphene
• defect
• nanoindentation
• molecular dynamics
• thin film

石墨烯具有独特的力学、电学性能,被誉为是具有战略意义的新材料,具有广泛的应用前景.目前生产的石墨烯含有各种缺陷,相较于完美石墨烯,其仍有较大应用价值.因此有必要研究和掌握缺陷对石墨烯性能的影响,以便在目前的生产技术下,推动其工业化应用.采用Tersoff势来模拟C—C共价键的相互作用,Lernnard--Jones势来模拟非成键碳原子之间相互作用力,基于分子动力学模拟了金刚石压头压入含缺陷双层石墨烯的纳米压痕过程,讨论了Lernnard--Jones势函数的截断半径最佳值以及得到了典型的载荷-位移曲线.重点探讨了Stone--Thrower--Wales、空位(包括单空位和双空位缺陷)以及圆孔...

• 出版日期2016
• 单位西安建筑科技大学