NiFe/Cu多层膜的结构与层间耦合效应

作者：张咪; 王海

来源：磁性材料及器件, 2015, 46(05): 19-63.

• NiFe/Cu多层膜
• 靶表磁场
• 结构
• 层间耦合

用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备了[Ni80Fe20/Cu]20多层膜,其中采用了靶表磁场强度不同的靶腔沉积铜层,利用X射线衍射和振动样品磁强计对Cu(100nm)/[Ni80Fe20(0.9nm)/Cu(tCu)]20两个系列样品的结构和磁性进行了表征。靶表磁场较弱时沉积的多层膜具有良好的层间耦合振荡行为,而靶表磁场较强时制备的多层膜没有出现反铁磁耦合。依据上述事实,我们推测靶表磁场强度的不同会影响Ni Fe/Cu界面扩散,进而对多层膜样品的磁性产生影响。用靶表磁场较弱的靶腔沉积中间层铜能够有效减小界面互溶程度,改善镍铁与铜的成层质量。而靶表磁场较强的靶腔溅射出的铜原子具有较高能量,在界面处扩散并与镍铁层互溶,破坏了层状结构。

• 出版日期2015
• 单位首都师范大学