电子束曝光机安装调试中的电磁兼容设计

作者：刘祖京; 杨中山; 方光荣

来源：电工电能新技术, 1997, (04): 45-48.

• 微电子技术
• 电子束曝光机
• 电磁兼容设计
• 抗干扰 microelectron technique
• E beam writer
• EMC design
• anti interference

本文从定义电磁兼容设计目标函数出发，针对具体环境出现的各种干扰问题，根据评价表达式的要求来进行电磁兼容设计。本文所提出的设计思想，经在电子束曝光机安装调试过程中的实践所验证。

• 出版日期1997
• 单位中国科学院电工研究所