科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
摘要
本发明公开了用于制备凹槽栅增强型器件的精准刻蚀装置及其刻蚀方法。本发明提供的装置包括电感耦合等离子体刻蚀腔、电流检测装置、电感线圈、射频源、机械泵及分子泵；电流检测装置与电感耦合等离子体刻蚀腔连接；电感线圈与电感耦合等离子体刻蚀腔连接；射频源与电感线圈连接；机械泵和分子泵与电感耦合等离子体刻蚀腔连接。该装置在制备HEMT器件的过程中,当显示电流为零时,二维电子气沟道被关断,达到刻蚀终点,避免过度刻蚀造成栅极漏电及损伤二维电子气沟道,实现精准刻蚀。本发明仅额外接一个电流检测装置,无需增添额外的操作步骤,即可实现精确刻蚀,操作简便,有利于提高增强型HEMT器件产品良率,具有很高的实用价值。
- 出版日期2019-3-29
- 单位华南理工大学
