沉积时间对电沉积ZnS薄膜的影响

作者：刘一军; 黄剑锋; 王秀峰; 朱辉

来源：人工晶体学报, 2010, S1: 69-72.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2010.s1.049

• ZnS薄膜
• 电沉积
• X射线衍射
• 沉积时间 ZnS thin films
• electrodeposition
• X-ray diffraction
• deposition time

采用阴极恒电位法在氧化锡铟导电玻璃(ITO)基板上电沉积了ZnS薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外/可见/近红外吸收光谱仪(UV-VIS-NIR)对薄膜的物相结构,微观形貌和光学性能进行了表征,研究了沉积时间对薄膜的结构以及光学性能的影响。研究结果表明:当沉积时间为6min时,可以得到表面均匀而致密的ZnS薄膜,在500～1000nm波长范围内的薄膜透过率约为40%～60%。随着沉积时间的增加,ZnS薄膜的结晶程度、微观形貌均有所改善,但当沉积时间达到或超过8min时,薄膜的结构和性能又有所下降。

• 出版日期2010
• 单位陕西科技大学; 广东蒙娜丽莎陶瓷有限公司