射频功率对FN-DLC薄膜粘附性的影响

作者：蒋爱华; 肖剑荣

来源：真空, 2008, (02): 67-69.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2008.02.010

• FN-DLC薄膜
• 化学键
• 粘附性

利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在单晶硅(100)晶面上制备了掺氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜样品。用傅立叶变换吸收红外光谱(FTIR)、扫描电镜和金相显微镜分析了薄膜的组分和结构及表面形貌。红外分析表明,FN-DLC薄膜中主要有C-Fx(x=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3和C=C化学键等。功率增加时,薄膜内C-C、C=C键含量相对增加,F浓度的相对含量降低,薄膜的粘附性增强。

• 出版日期2008-3-25
• 单位桂林理工大学