对坩埚中硅熔体自由表面流的研究

作者：李英春; 万群; 秦福

来源：稀有金属, 1989, (02): 168-172.

• 表面层
• 表面流
• 石墨粒
• 生长界面
• 移动情况
• 移动方式
• 均匀性
• 熔体流动
• 实验模拟
• 径向分布

本文采用观察熔硅自由表面上标记物体移动方式的方法研究了坩埚中自由表面层熔体的流动。提出了熔体中杂质传输的新看法。实验结果证实了自由表面层熔体流动对杂质在晶体中分布的影响。

• 出版日期1989
• 单位北京有色金属研究总院