纳米晶钨膜的沉积工艺研究及微结构表征

作者：王玲; 邓爱红; 汪渊; 王康; 王一航; 王飞; 安竹

来源：四川大学学报(自然科学版), 2015, 52(02): 348-352.

• 金属材料
• 纳米晶钨膜
• 磁控溅射
• 增强质子背散射
• 慢正电子束分析

采用射频测控溅射方法,在Ar/He混合气氛下制备了纳米晶钨膜;利用增强质子背散射、慢正电子束分析和X射线衍射分析分别对钨膜中钨原子沉积情况、空位型缺陷分布及微结构进行了分析.结果表明:纳米晶钨膜具有完好的体心立方晶体结构,沿(110)方向生长;微量的氦掺入有助于钨原子沉积,同时也有利于制备均匀性和热稳定性较好的厚钨膜.

• 出版日期2015
• 单位核工程与地球物理学院; 四川大学; 东华理工大学; 辐射物理及技术教育部重点实验室