脉冲激光气相沉积技术现状与进展

作者：张超; 吴卫东; 陈正豪; 周岳亮; 孙卫国; 唐永建; 程新路

来源：材料导报, 2003, (12): 73-76.

• 脉冲激光沉积
• 熔蚀
• 薄膜
• 进展 pulsed laser deposition
• ablation
• thin-films
• progress

介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。

• 出版日期2003
• 单位四川大学; 中国工程物理研究院激光聚变研究中心; 中国科学院物理研究所