铝膜厚度对铝诱导非晶硅薄膜晶化的影响

作者：王建军; 陈花

来源：价值工程, 2011, (27): 28-29.

• 非晶硅
• 铝诱导晶化
• 晶化率 amorphous silicon
• aluminum-induced crystallization
• crystalline volume fraction

实验采用glass/a-Si:H/Al结构,在厚100 nm非晶硅膜上蒸镀了不同厚度的铝膜,利用铝诱导晶化法晶化非晶硅薄膜,结果发现经380℃退火后非晶硅薄膜晶化率在铝膜厚度与非晶硅膜相等时有最大值,且其晶化率随晶粒尺寸的增大而增大,而其表面粗糙度随铝厚度的增加而增大。

• 出版日期2011
• 单位榆林学院