多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析

作者：郎文昌; 高斌; 杜昊; 肖金泉; 谢婷婷; 王向红

来源：真空科学与技术学报, 2015, (06): 662-670.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2015.06.05

• 机械式旋转磁控弧源
• 旋转不对称偏心轴向磁场
• 旋转偏心横向磁场
• 旋转偏心四极对顶磁场
• 旋转偏心拱形磁场 Mechanical rotating magnetic field assisted arc source
• Rotating asymmetric and offset axial magnetic field
• Rotating offset transverse magnetic field
• Rotating offset quadrupole(four poles) antipodal magnetic field
• Rotating offset arched magnetic field

电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。

• 出版日期2015
• 单位温州职业技术学院; 中国科学院金属研究所