电沉积Co-Mo-P磁性薄膜的结构及磁性能研究(英文)

作者：葛洪良; 余云丹; 卫国英; 吴琼

来源：稀有金属材料与工程, 2010, S2: 48-51.

• Co-Mo-P
• 磁性薄膜
• 电化学沉积
• 微结构 Co-Mo-P
• magnetic thin films
• electrodeposition
• microstructure

通过电化学沉积方法制备了Co-Mo-P磁性薄膜。对电化学沉积速率、薄膜成分、微结构及磁性能进行了研究。结果表明,镀液温度是影响Co-Mo-P电化学沉积的主要因素。薄膜组成对Co-Mo-P的微结构及磁性能有很大影响。当次磷酸钠的浓度从0mol/L增到0.05mol/L时,在XRD图谱上观察到相变。在沉积电流密度为20mA/cm2,沉积温度为40℃,薄膜中P含量为6.05at%([H2PO2-]=0.02mol/L)时,得到的薄膜饱和磁化强度为139(A·m2)/kg,矫顽力为6926Am-1。在此条件下所制备的薄膜具有良好的软磁性。

• 出版日期2010
• 单位中国计量大学